高純鎢條中痕量雜質(zhì)的檢測(cè)有知道的朋友嗎？

發(fā)布時(shí)間：2020-09-22

高純鎢中痕量元素的測(cè)定是評(píng)價(jià)高純鎢性能的重要標(biāo)準(zhǔn)，降低痕量元素的測(cè)定下限和增加痕量元素的測(cè)定數(shù)目，提高測(cè)量的精確度和靈敏度是高純鎢檢測(cè)工藝的主要攻關(guān)方向。高純金屬中痕量元素的檢測(cè)常用手段有光譜分析、質(zhì)譜分析、中子分析等。隨著材料純度的提高，傳統(tǒng)的光譜分析以及中子分析所測(cè)元素的量及分析靈敏度均不能滿足6N 鎢粉的分析要求，而質(zhì)譜分析在高純鎢中痕量雜質(zhì)的檢測(cè)方面發(fā)揮著越來越重要的作用。

電感耦合等離子質(zhì)譜法( ICP-MS) 測(cè)定方法是新一代痕量分析技術(shù)，具有檢測(cè)限低、能進(jìn)行多元素同時(shí)分析等優(yōu)點(diǎn)，但仍存在基體效應(yīng)的干擾問題。北京有色金屬研究院采取預(yù)分離富集技術(shù)，借助離子色譜分離基體，降低基體對(duì)雜質(zhì)檢測(cè)的干擾，利用膜去溶裝置吹掃溶劑有效地降低了ICP-MS檢測(cè)過程中氧化物的產(chǎn)率，精確地測(cè)定了6N 鎢粉中的雜質(zhì)。

與ICP-MS 法相比，輝光放電質(zhì)譜法(GDMS)具有可對(duì)固體樣品直接測(cè)量、樣品制備簡(jiǎn)單的優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)避免了ICP-MS法溶樣過程中難溶元素的損失和污染的引入，可更有效地應(yīng)用于6N及以上高純鎢的全面分析檢測(cè)。隨著儀器靈敏度、分辨率、穩(wěn)定性等的進(jìn)一步提高，GD-MS作為對(duì)超純樣品直接分析的質(zhì)譜方法將得到更廣泛的應(yīng)用。

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